GB/T 24582-2023《多晶硅表面金属杂质含量测定 酸浸取-电感耦合等离子体质谱法》

GB/T 24582-2023《多晶硅表面金属杂质含量测定 酸浸取-电感耦合等离子体质谱法》基本信息

标准号：GB/T 24582-2023

中文名称：《多晶硅表面金属杂质含量测定 酸浸取-电感耦合等离子体质谱法》

发布日期：2023-08-06    

实施日期：2024-03-01

发布部门：国家市场监督管理总局 国家标准化管理委员会    

提出单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)    

归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)    

起草单位：亚洲硅业(青海)股份有限公司、内蒙古通威高纯晶硅有限公司、宜昌南玻硅材料有限公司、青海芯测科技有限公司、江苏中能硅业科技发展有限公司、新疆大全新能源股份有限公司、陕西有色天宏瑞科硅材料有限责任公司、洛阳中硅高科技有限公司、新疆新特新能材料检测中心有限公司等

起草人：尹东林、郑连基、刘军、魏东亮、蔡延国、李素青、侯海波、田洪先、刘文明、薛心禄、王彬、于生海、徐岩、曹岩德、姜士兵、邱艳梅、赵培芝、万首正、赵娟龙、申梅桂、刘海月、王春明    

中国标准分类号：H17半金属及半导体材料分析方法

国际标准分类号：77.040金属材料试验

GB/T 24582-2023《多晶硅表面金属杂质含量测定 酸浸取-电感耦合等离子体质谱法》介绍

国家市场监督管理总局和国家标准化管理委员会联合发布了GB/T 24582-2023《多晶硅表面金属杂质含量测定 酸浸取-电感耦合等离子体质谱法》标准。该标准将于2024年3月1日起正式实施。

一、标准概述

GB/T 24582-2023标准规定了采用酸浸取-电感耦合等离子体质谱法（以下简称ICP-MS法）测定多晶硅表面金属杂质含量的方法。ICP-MS法是一种高灵敏度、高准确度的分析技术，能够有效地检测多晶硅中的金属杂质含量，为多晶硅的质量控制提供了科学依据。

二、标准内容详解

1、范围

标准明确了其适用范围，即多晶硅表面金属杂质含量的测定。这包括了多晶硅生产过程中可能引入的多种金属杂质，如铁、铜、铝等。

2、规范性引用文件

标准列出了在实施过程中需要参考的其他标准和文件，这些文件为检测方法提供了必要的技术参数和操作指导。

3、术语和定义

对标准中使用的专业术语和定义进行了明确，确保了检测过程中的术语统一和理解准确。

4、原理

详细阐述了ICP-MS法的工作原理，即通过酸浸取将多晶硅表面的金属杂质溶解，然后利用ICP-MS技术进行定量分析。

5、试剂和材料

规定了检测过程中所需试剂和材料的规格和要求，确保了实验的准确性和重复性。

6、仪器和设备

列出了进行ICP-MS分析所需的仪器和设备，包括酸浸取装置、ICP-MS仪器等。

7、样品的采集和制备

详细描述了样品采集和制备的步骤，包括样品的取样、研磨、酸浸取等，确保样品的代表性和检测的准确性。

8、分析步骤

提供了详细的分析步骤，包括样品的酸浸取、ICP-MS的参数设置、数据采集和处理等。

9、结果计算

规定了结果计算的方法和公式，确保了结果的准确性和可比性。

10、精密度和准确度

提供了精密度和准确度的要求，以及如何评估和控制这些参数。

11、质量控制

推荐了进行质量控制的方法，包括使用标准物质、进行空白试验和重复性试验等。

12、注意事项

提醒使用者在实验过程中需要注意的事项，以避免可能影响结果准确性的错误。

三、标准的意义

GB/T 24582-2023标准的发布和实施，对于提高多晶硅材料的质量控制水平具有重要意义。它不仅规范了检测方法，还提高了检测的准确性和重复性，有助于提升光伏产品的质量和性能。该标准的实施也将推动相关检测技术的发展，促进光伏产业的技术创新和产业升级。