“钨的发射光谱分析方法”的标准号是:YS/T 559-2009
YS/T 559-2009《钨的发射光谱分析方法》由中华人民共和国工业和信息化部于2009-12-04发布,并于2010-06-01实施。
该标准的起草单位为自贡硬质合金有限责任公司;起草人是谭泰章、王培、魏利。
“钨的发射光谱分析方法”介绍
钨的发射光谱分析方法是一种定量分析技术,它基于物质在激发后所发射的光谱特征来鉴定和测定样品中的元素含量。这种方法通常需要将钨样品置于高能量激发源下,如电弧或火花发生器,使得钨的原子被激发到高能级。当这些激发态的钨原子跃迁回低能级时,会释放出光子形成特定的光线,这些光线具有独特的波长分布,形成了钨的特征发射光谱。
在实际操作中,钨的发射光谱通过分光计进行分析,分光计可以分解成各个组分的波长,并将它们记录下来,得到一个包含多个尖锐峰值的谱图。每个峰对应于钨中的一个特定发射线,其强度正比于样品中钨的浓度。通过比较未知样品发射光谱与一系列已知浓度的标准溶液的发射光谱,可以计算出钨在样品中的准确含量。
钨的发射光谱分析方法因其高灵敏度、准确性以及能够同时分析多种元素的能力而被广泛应用。这种方法要求使用昂贵的仪器并且操作复杂,需要专业的技术人员进行操作和数据解读。钨的物理性质和化学特性也可能导致样品制备和光谱测量过程中的困难,因此,在进行钨的发射光谱分析时需考虑这些因素以保证结果的准确性和可靠性。
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