JB/T 7505-1994《离子镀 术语》

JB/T 7505-1994《离子镀 术语》基本信息

标准号：JB/T 7505-1994

中文名称：《离子镀 术语》

发布日期：1994-10-25    

实施日期：1995-10-01

发布部门：武汉材料保护研究所    

归口单位：武汉材料保护研究所    

JB/T 7505-1994《离子镀 术语》介绍

武汉材料保护研究所于1994年10月25日发布了《离子镀 术语》标准（JB/T 7505-1994），并于1995年10月1日正式实施。

一、标准主要内容

1、术语定义：标准对离子镀技术中涉及的专业术语进行了定义，包括离子源、离子轰击、沉积速率、膜层厚度等。这些术语的定义有助于行业内的沟通和交流，避免因术语不明确而产生误解。

2、技术要求：标准对离子镀技术的基本要求进行了规定，包括离子源的选择、离子轰击的能量、沉积速率的控制等。

3、设备要求：标准对离子镀设备的基本结构和性能要求进行了规定，包括离子源、真空系统、控制系统等。这些设备要求有助于确保离子镀技术的稳定性和可靠性。

4、检验与试验：标准对离子镀膜层的检验与试验方法进行了规定，包括膜层厚度、硬度、附着力等性能指标的测试方法。这些检验与试验方法有助于评估离子镀膜层的质量，为进一步优化离子镀技术提供依据。

二、标准实施的意义

1、规范术语：通过明确离子镀技术中涉及的专业术语，有助于行业内的沟通和交流，避免因术语不明确而产生误解。

2、提高膜层质量：通过规定离子镀技术的基本要求和设备要求，有助于提高膜层的质量，满足不同应用领域的需求。

3、促进技术创新：标准的实施有助于推动离子镀技术的创新和发展，为相关领域的技术进步提供支持。

4、提高国际竞争力：通过规范离子镀技术的专业术语和技术要求，有助于提高我国在国际市场上的竞争力。

《离子镀 术语》标准（JB/T 7505-1994）的发布和实施，对于规范离子镀技术的专业术语、提高膜层质量、促进技术创新和提高国际竞争力具有重要意义。