GB/T 40279-2021《硅片表面薄膜厚度的测试 光学反射法》

GB/T 40279-2021《硅片表面薄膜厚度的测试 光学反射法》基本信息

标准号：GB/T 40279-2021

中文名称：《硅片表面薄膜厚度的测试 光学反射法》

发布日期：2021-08-20    

实施日期：2022-03-01

发布部门：国家市场监督管理总局  国家标准化管理委员会    

提出单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)    

归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)    

起草单位：有研半导体材料有限公司、山东有研半导体材料有限公司、浙江金瑞泓科技股份有限公司、优尼康科技有限公司、中环领先半导体材料有限公司、浙江海纳半导体有限公司、麦斯克电子材料股份有限公司、翌颖科技(上海)有限公司、开化县检验检测研究院

起草人：徐继平、宁永铎、卢立延、孙燕、张海英、由佰玲、潘金平、李扬、胡晓亮、张雪囡、楼春兰、盘健冰    

中国标准分类号：H21金属物理性能试验方法

国际标准分类号：77.040金属材料试验

GB/T 40279-2021《硅片表面薄膜厚度的测试 光学反射法》介绍

GB/T 40279-2021是一项推荐性国家标准，旨在规定硅片表面薄膜厚度测试的光学反射法。该标准由国家市场监督管理总局和国家标准化管理委员会发布，并于2021年8月20日正式发布，自2022年3月1日起正式实施。

一、标准适用范围

本标准适用于硅片表面薄膜厚度的测量，特别是当薄膜厚度较小，无法使用传统机械测量方法时。光学反射法以其非接触、无损和高精度的特点，成为硅片表面薄膜厚度测量的理想选择。

二、测试原理

光学反射法基于光在不同介质界面上的反射和折射原理。当光束照射到硅片表面的薄膜时，一部分光被薄膜界面反射，另一部分则被薄膜和硅片界面反射。通过测量不同界面反射光的强度和相位，可以计算出薄膜的厚度。

三、测试设备和材料

标准规定了进行光学反射法测试所需的设备和材料，包括但不限于：

光学反射测量仪：用于发射和接收反射光的设备。

标准硅片：用于校准测量仪的参考材料。

清洁材料：用于清洁硅片表面的材料，确保测试准确性。

四、测试步骤

1、样品准备：确保硅片表面清洁，无污染和损伤。

2、设备校准：使用标准硅片进行设备校准，确保测量精度。

3、测量：将硅片放置在测量仪上，调整光束对准硅片表面，进行反射光的测量。

4、数据处理：根据测量数据，通过特定的算法计算薄膜厚度。

5、结果分析：对测量结果进行分析，以评估硅片表面薄膜的厚度。

五、结果表示和报告

测试结果应以标准单位（如纳米）表示，并在报告中详细记录测量条件、设备校准情况、测量数据和计算过程。报告应由具有相应资质的技术人员签发，并包含必要的质量保证声明。

六、标准的意义

GB/T 40279-2021的发布和实施，对于提升硅片制造行业的技术标准和产品质量具有重要意义。它不仅规范了硅片表面薄膜厚度的测量方法，还有助于提高半导体器件的性能和可靠性，推动我国半导体产业的发展。