GB/T 42905-2023《碳化硅外延层厚度的测试 红外反射法》

GB/T 42905-2023《碳化硅外延层厚度的测试 红外反射法》基本信息

标准号：GB/T 42905-2023

中文名称：《碳化硅外延层厚度的测试 红外反射法》

发布日期：2023-08-06    

实施日期：2024-03-01

发布部门：国家市场监督管理总局 国家标准化管理委员会    

提出单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)    

归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)    

起草单位：安徽长飞先进半导体有限公司、安徽芯乐半导体有限公司、河北普兴电子科技股份有限公司、广东天域半导体股份有限公司、南京国盛电子有限公司、浙江芯科半导体有限公司、布鲁克(北京)科技有限公司、中国科学院半导体研究所、有色金属技术经济研究院有限责任公司

起草人：钮应喜、刘敏、袁松、赵丽霞、丁雄杰、吴会旺、仇光寅、李素青、李京波、张会娟、赵跃、彭铁坤、雷浩东、闫果果    

中国标准分类号：H21金属物理性能试验方法

国际标准分类号：77.040金属材料试验

GB/T 42905-2023《碳化硅外延层厚度的测试 红外反射法》介绍

《碳化硅外延层厚度的测试 红外反射法》（GB/T 42905-2023）是由国家市场监督管理总局和国家标准化管理委员会联合发布的一项国家标准。该标准于2023年8月6日发布，并计划于2024年3月1日起正式实施。

一、测试方法

1、红外反射法原理

红外反射法是一种非破坏性测试方法，它利用红外光在不同材料界面上的反射特性来测量材料的厚度。当红外光照射到碳化硅外延层时，由于外延层与基底材料的折射率差异，红外光在界面处产生反射和折射现象。通过测量反射光的强度和相位变化，可以计算出外延层的厚度。

2、测试设备要求

标准详细规定了进行红外反射法测试所需的设备类型和性能要求，包括红外光源、探测器、光谱仪等关键组件。这些设备必须能够提供稳定和精确的测试数据。

3、测试过程

标准详细描述了测试过程的每一步，包括样品的准备、测试环境的设置、红外光的照射角度、数据的采集和处理等。这些步骤确保了测试过程的标准化和可重复性。

二、结果评估

1、数据处理

标准规定了如何处理和分析测试数据，包括对反射光信号的滤波、背景噪声的消除、信号的放大和转换等。这些处理步骤有助于提高数据的信噪比和测量精度。

2、结果的准确性和重复性

标准要求测试结果必须具有较高的准确性和重复性。为此，标准提供了一系列的质量控制措施，包括测试设备的校准、测试条件的标准化、以及对测试结果的统计分析。

3、结果报告

标准规定了测试结果的报告格式，包括测试日期、样品信息、测试条件、测量值和不确定度等。这些信息有助于用户理解和验证测试结果。

三、标准的应用

《碳化硅外延层厚度的测试 红外反射法》（GB/T 42905-2023）标准的发布和实施，对于推动碳化硅材料和器件的标准化生产、提高产品质量、促进国际贸易和技术交流具有重要意义。它不仅为生产企业提供了统一的测试方法，也为科研机构和检测机构提供了标准化的评估工具。