JC/T 995-2006《低比表面积高烧结活性氧化锆粉体》

JC/T 995-2006《低比表面积高烧结活性氧化锆粉体》基本信息

标准号：JC/T 995-2006

中文名称：《低比表面积高烧结活性氧化锆粉体》

发布日期：2006-03-07    

实施日期：2006-08-01

发布部门：中华人民共和国国家发展和改革委员会    

提出单位：中国建筑材料工业协会    

归口单位：全国工业陶瓷标准化技术委员会    

起草单位：中国科学院上海硅酸盐研究所

起草人：施剑林、蒋丹宇、陈调娣、刘琪、陆正兰、朱国强    

中国标准分类号：Q32特种陶瓷

国际标准分类号：81.060陶瓷

JC/T 995-2006《低比表面积高烧结活性氧化锆粉体》介绍

JC/T 995-2006《低比表面积高烧结活性氧化锆粉体》是一项由中华人民共和国国家发展和改革委员会发布的国家标准，JC/T 995-2006标准于2006年3月7日发布，自2006年8月1日起正式实施。

一、物理性能要求

1、比表面积：标准规定，低比表面积高烧结活性氧化锆粉体的比表面积应小于10平方米/克，以保证其在高温烧结过程中具有较高的烧结活性。

2、真密度：真密度作为粉体材料的重要物理性能指标，标准规定其真密度应大于5.8克/立方厘米。

3、松装密度：松装密度是衡量粉体颗粒间空隙大小的指标，标准规定松装密度应大于2.5克/立方厘米。

二、化学性能要求

1、纯度：氧化锆粉体的纯度是影响其性能的关键因素。标准规定，低比表面积高烧结活性氧化锆粉体的纯度应不低于99.5%。

2、杂质含量：标准对氧化锆粉体中的杂质含量进行了严格限制，如铁、铝、硅等元素的含量均应控制在规定范围内。

3、氧化锆相含量：氧化锆粉体中应主要为单斜氧化锆和四方氧化锆，其总含量应不低于98%。

三、颗粒形态和粒度分布

1、颗粒形态：标准规定，氧化锆粉体的颗粒应为不规则形状，以提高其烧结活性和力学性能。

2、粒度分布：粒度分布是影响粉体烧结性能的重要因素。标准规定，氧化锆粉体的粒度分布应满足D50（中值粒径）在0.5-2.0微米之间，D90（90%通过粒径）在5.0微米以下。

四、检验方法

1、比表面积测定：采用氮吸附法，通过BET方程计算比表面积。

2、真密度测定：采用比重瓶法或气体排代法测定真密度。

3、松装密度测定：通过测量一定质量粉体在松散状态下的体积来计算松装密度。

4、纯度和杂质含量测定：采用化学分析方法，如X射线荧光光谱法、原子吸收光谱法等。

5、氧化锆相含量测定：采用X射线衍射法测定氧化锆相含量。

6、颗粒形态和粒度分布测定：采用扫描电子显微镜观察颗粒形态，通过激光粒度分析仪测定粒度分布。

JC/T 995-2006《低比表面积高烧结活性氧化锆粉体》标准为氧化锆粉体的生产和应用提供了明确的指导和规范，有助于提高产品质量和应用效果。相关企业和技术人员应严格按照标准要求进行生产和应用，以确保产品的高性能和可靠性。