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SJ/T 11504-2015《碳化硅单晶抛光片表面质量的测试方法》

SJ/T 11504-2015更新时间: 2025-03-27
标准详情

SJ/T 11504-2015《碳化硅单晶抛光片表面质量的测试方法》基本信息

标准号:SJ/T 11504-2015

中文名称:《碳化硅单晶抛光片表面质量的测试方法》

发布日期:2015-04-30    

实施日期:2015-10-01

发布部门:中华人民共和国工业和信息化部    

SJ/T 11504-2015《碳化硅单晶抛光片表面质量的测试方法》介绍

中华人民共和国工业和信息化部于2015年发布了SJ/T 11504-2015《碳化硅单晶抛光片表面质量的测试方法》标准,该标准自2015年10月1日起实施。

一、标准内容详解

1、测试环境

标准规定了测试环境的温度、湿度、清洁度等要求,以确保测试结果的准确性和可靠性。

2、测试设备

标准详细列出了进行碳化硅单晶抛光片表面质量测试所需的设备和仪器,包括显微镜、激光扫描仪、表面粗糙度测量仪等,并规定了这些设备的精度和校准要求。

3、测试步骤

标准详细描述了测试步骤,包括样品的准备、测试的实施和数据的记录等。测试步骤的规范有助于减少人为误差,提高测试结果的一致性和可比性。

4、结果评估

标准提供了评估碳化硅单晶抛光片表面质量的方法和标准,包括表面缺陷的分类、尺寸的测量和缺陷密度的计算等。这些评估方法有助于判断抛光片是否符合质量要求。

二、标准的重要性

1、提高产品质量

通过规范测试方法,可以确保碳化硅单晶抛光片的表面质量达到行业标准,从而提高产品的可靠性和性能。

2、促进行业发展

统一的测试方法有助于行业内的企业和研究机构之间的交流和合作,推动整个碳化硅单晶抛光片行业的技术进步和市场发展。

3、保护消费者权益

标准的实施有助于保护消费者权益,确保消费者购买到的碳化硅单晶抛光片产品符合质量要求。

SJ/T 11504-2015《碳化硅单晶抛光片表面质量的测试方法》标准的发布,不仅为碳化硅单晶抛光片的生产和检测提供了规范,也为整个半导体材料行业的发展提供了技术支持。

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