《低比表面积高烧结活性氧化锆粉体》执行标准号

“低比表面积高烧结活性氧化锆粉体”的标准号是：JC/T 995-2006

JC/T 995-2006《低比表面积高烧结活性氧化锆粉体》由中华人民共和国国家发展和改革委员会于2006-03-07发布，并于2006-08-01实施。

该标准的起草单位为中国科学院上海硅酸盐研究所；起草人是施剑林、蒋丹宇、陈调娣、刘琪、陆正兰、朱国强。

“低比表面积高烧结活性氧化锆粉体”介绍

低比表面积高烧结活性氧化锆粉体是一种高性能的材料，它以其独特的物化特性在多个领域中显示出巨大的应用潜力。这种粉末由于具有较低的比表面积和较高的烧结活性，使得其在制造过程中更容易实现高密度和高强度的烧结体。低比表面积意味着粉末颗粒间的接触点较少，从而减少了烧结时气体的阻碍，提高了烧结体的均匀性。而高烧结活性则确保了在相对较低的温度下就能实现快速且高效的烧结过程，这对于节省能源和提高生产效率具有重要意义。

这种氧化锆粉体还具有良好的化学稳定性和机械性能，使其成为制作先进陶瓷、固体电解质及生物医学植入物等领域的优选材料。其优异的抗磨损能力和较高的断裂韧性，为高性能结构材料的开发提供了新的可能。同时，这种粉体因其良好的生物相容性，也常被用于医疗领域，如牙科修复材料和骨科植入物等，展示了其在提高人们生活质量方面的巨大潜能。低比表面积高烧结活性氧化锆粉体不仅优化了传统材料的性能，还拓展了新材料的开发前景，对于推动现代科学技术的进步具有不可忽视的重要性。