




GB/T 14144-2009《硅晶体中间隙氧含量径向变化测量方法》基本信息
标准号:GB/T 14144-2009
中文名称:《硅晶体中间隙氧含量径向变化测量方法》
发布日期:2009-10-30
实施日期:2010-06-01
发布部门:中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会
提出单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会
归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会
起草单位:峨嵋半导体材料厂
起草人:杨旭、江莉
中国标准分类号:H80半金属与半导体材料综合
国际标准分类号:29.045半导体材料
GB/T 14144-2009《硅晶体中间隙氧含量径向变化测量方法》介绍
GB/T 14144-2009《硅晶体中间隙氧含量径向变化测量方法》是由中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局和中国国家标准化管理委员会联合发布的一项国家标准。该标准于2009年10月30日发布,并于2010年6月1日正式实施。
一、标准内容
1、测量原理
标准详细描述了硅晶体中间隙氧含量的测量原理,包括样品的制备、测量设备的要求以及测量过程中的注意事项。测量原理基于硅晶体中间隙氧原子对红外光的吸收特性,通过红外光谱技术来定量分析间隙氧含量。
2、样品制备
标准规定了样品的制备流程,包括样品的切割、抛光和清洁等步骤,以确保样品表面状态符合测量要求。
3、测量设备
对于测量设备,标准提出了具体的要求,包括红外光谱仪的类型、波长范围、分辨率等技术指标,以及测量过程中所需的辅助设备和工具。
4、测量过程
标准详细阐述了测量过程,包括样品的放置、测量参数的设置、数据的采集和处理等步骤。特别强调了在测量过程中对环境条件的控制,如温度、湿度等,以减少外界因素对测量结果的影响。
5、数据处理
标准提供了数据处理的方法,包括数据的校正、计算和结果的表达。数据处理的目的是为了确保测量结果的准确性和可重复性。
二、标准的意义
GB/T 14144-2009标准的制定和实施,对于提高硅晶体产品质量、优化生产工艺、降低生产成本具有重要意义。不仅为硅晶体的生产提供了一个统一的测量标准,还有助于推动硅晶体产业的技术进步和国际竞争力的提升。
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