YS/T 935-2013《电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南》

YS/T 935-2013《电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南》基本信息

标准号：YS/T 935-2013

中文名称：《电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南》

发布日期：2013-10-17

实施日期：2014-03-01

发布部门：中华人民共和国工业和信息化部

归口单位：全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC 243)

起草单位：有研亿金新材料股份有限公司

起草人：张涛、何金江、丁照崇、万小勇、徐建卫、廖赞、尚再艳、王欣平、熊晓东、吕保国

中国标准分类号：H68贵金属及其合金

国际标准分类号：77.150.99其他有色金属产品

YS/T 935-2013《电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南》介绍

YS/T 935-2013《电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南》是中华人民共和国工业和信息化部发布的一项标准，该标准自2013年10月17日发布，并于2014年3月1日起正式实施。

一、标准规定内容

1、目的与适用范围

YS/T 935-2013标准的主要目的是为了确保电子薄膜用高纯金属溅射靶材的质量，提高其在电子工业中的应用性能。该标准适用于电子薄膜用高纯金属溅射靶材的纯度等级及杂质含量的分析和报告。

2、术语与定义

标准中对“高纯金属”、“溅射靶材”、“纯度等级”和“杂质含量”等术语进行了明确的定义和解释，为标准的理解和执行提供了基础。

3、纯度等级

YS/T 935-2013标准规定了高纯金属溅射靶材的纯度等级，包括99.9%、99.99%、99.999%和99.9999%四个等级。不同等级的靶材适用于不同的电子薄膜制备工艺和应用领域。

4、杂质含量

标准对高纯金属溅射靶材中的杂质含量进行了详细的规定，包括主要杂质元素和非主要杂质元素的含量要求。杂质含量的控制对于保证电子薄膜的性能至关重要。

5、分析方法

YS/T 935-2013标准推荐了多种分析方法，包括原子吸收光谱法、感应耦合等离子体质谱法和X射线荧光光谱法等，用于测定高纯金属溅射靶材中的杂质含量。

6、报告格式

标准规定了高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析报告的格式，包括报告的标题、样品信息、分析结果、分析方法和报告日期等内容。

二、标准的意义

1、提高产品质量

YS/T 935-2013标准对电子薄膜用高纯金属溅射靶材的纯度和杂质含量进行了严格的规定，有助于提高靶材的质量，从而提高电子薄膜的性能。

2、规范市场行为

该标准为电子薄膜用高纯金属溅射靶材的生产和销售提供了统一的技术要求，有助于规范市场行为，保护消费者权益。

3、促进行业发展

通过制定和实施这一标准，可以推动电子薄膜用高纯金属溅射靶材行业的技术进步和产业升级，促进整个电子工业的发展。