SJ/T 11491-2015《短基线红外吸收光谱法测量硅中间隙氧含量》

SJ/T 11491-2015《短基线红外吸收光谱法测量硅中间隙氧含量》基本信息

标准号：SJ/T 11491-2015

中文名称：《短基线红外吸收光谱法测量硅中间隙氧含量》

发布日期：2015-04-30

实施日期：2015-10-01

发布部门：中华人民共和国工业和信息化部

SJ/T 11491-2015《短基线红外吸收光谱法测量硅中间隙氧含量》介绍

SJ/T 11491-2015《短基线红外吸收光谱法测量硅中间隙氧含量》是由中华人民共和国工业和信息化部于2015年4月30日发布，并于同年10月1日起正式实施的一项国家标准。

一、标准适用范围

SJ/T 11491-2015标准适用于采用短基线红外吸收光谱法测量半导体级多晶硅、单晶硅和硅片中间隙氧含量。该标准不适用于其他类型的硅材料。

二、标准主要内容

1、术语和定义

标准首先对“间隙氧”、“红外吸收光谱法”、“短基线红外吸收光谱法”等术语进行了明确的定义，为后续的测量方法和结果解读提供了基础。

2、原理

短基线红外吸收光谱法是一种基于硅中间隙氧对红外光的吸收特性来测量硅中间隙氧含量的方法。标准详细阐述了该方法的原理，包括红外光的吸收、反射和透射等现象。

3、仪器设备

标准规定了测量硅中间隙氧含量所需的仪器设备，包括红外光谱仪、样品制备设备等，并对其性能要求进行了明确。

4、样品制备

样品制备是测量硅中间隙氧含量的关键步骤。标准对样品的切割、抛光、清洗等过程进行了详细的规定，以确保样品的质量和测量结果的准确性。

5、测量方法

标准详细描述了短基线红外吸收光谱法的测量步骤，包括样品的固定、红外光的照射、吸收光谱的记录等，并对测量过程中可能出现的问题进行了分析和解决方案的提供。

6、结果计算

标准规定了硅中间隙氧含量的计算方法，包括吸收峰的识别、定量分析等，并提供了计算公式和示例。

7、精密度和准确度

标准对测量结果的精密度和准确度进行了规定，包括重复性、再现性等指标，并提供了相应的测试方法和评价标准。

三、标准的意义

1、提高硅材料质量

通过规范硅中间隙氧含量的测量方法，可以更准确地评估硅材料的性能，从而提高硅材料的整体质量。

2、促进产业升级

标准的实施有助于推动硅材料产业的技术进步和产业升级，提高硅材料的附加值。

3、保障消费者权益

准确的硅中间隙氧含量测量结果，有助于消费者更好地了解硅材料的性能，保障消费者的合法权益。

4、推动国际合作

SJ/T 11491-2015标准与国际标准接轨，有助于推动我国硅材料产业的国际合作和交流。